Atomlithographie
Mark Rossi
Hauptseminar SS2000
Ultrakalte Atome und Atomoptik
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1
EINLEITUNG: KLASSISCHE LITHOGRAPHIE
1.1
KONZEPT
1.1.1
Belichtungsverfahren
1.2
GRENZEN
1.2.1
Abbildungsfehler
2
STRUKTURERZEUGUNG IN DER ATOMLITHOGRAPHIE
2.1
MAGNETLINSE
2.1.1
Magnetkraft
2.1.2
Experimenteller Aufbau
2.2
LICHTMASKEN
2.2.1
Lichtkräfte
2.2.2
Dipolkraft
2.2.3
Experimenteller Aufbau
2.2.4
Intensitätsgradienten-Lichtmasken
2.2.5
Polarisationsgradienten-Lichtmasken
2.2.6
Begrenzende Prozesse
2.3
SCHICHTMATERIALIEN
3
STRUKTURÜBERTRAG
3.1
DIREKTES ABSCHEIDEN
3.2
RESISTTECHNIK
3.3
GRENZEN DER VERFAHREN
4
ZUSAMMENFASSUNG UND AUSBLICK
4.1
ZUKÜNFTIGE EXPERIMENTE
4.2
VERBESSERUNGEN IM AUFBAU
5
LITERATUR
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